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(4)二氧化硅是硅的一种化合 物,硅单质及其化合物的用途极其广 泛,制备硅半导体材料必须先得到高 纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法 是当前制备高纯硅的主要方法,生产 过程示意图如下:①写出由SiHCl3制备高纯硅的反 应方程式:.②在制粗硅的反应中,焦炭的作 用是 .
viyavivi 1年前 已收到1个回答 举报

haosilugyzy 幼苗

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SiHCl3+H2=高温=Si+3HCl 焦炭的作用是当还原剂

1年前

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